公告摘要：
化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備（CMP）重新招標(biāo)澄清或變更公告(1)
招標(biāo)項(xiàng)目編號(hào)：0664-2540SUMECA35 項(xiàng)目名稱：化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備（CMP） 項(xiàng)目名稱(英文)：Chemical Mechanical Polishing Equipment (CMP) 招標(biāo)人：蘇州第三代半導(dǎo)體技術(shù)國(guó)創(chuàng)中心 招標(biāo)機(jī)構(gòu)：......
